Aktualności

keepcalm blue

 

baner dziekan2

  • c.png
  • f.png
  • z4.png
  • g1.png
  • 1IMG_2771.jpg
  • c1.png
  • 1IMG_2626.jpg
  • 1IMG_2779.jpg
  • 1IMG_2780.jpg
  • 21IMG_3125.jpg
  • s.png
  • x.png
  • d.png
  • 1IMG_2768.jpg
  • b1.png
  • 21IMG_3124.jpg
  • w.png
  • k.png
  • 21IMG_3126.jpg
  • i1.png
  • b.png
  • i.png
  • 1IMG_2772.jpg
  • y.png
  • e1.png
  • 21IMG_3123.jpg
  • z2.png
  • m.png
  • 1IMG_2620.jpg
  • 1IMG_2776.jpg
  • z.png
  • h1o.png
  • k2.png
  • j.png
  • l.png
  • 1IMG_2630.jpg
  • u.png
  • 1IMG_2775.jpg
  • f1.png
  • 1IMG_2770.jpg

 


ludwig

 

Dr inż. Wojciech Ludwig

 

Stanowisko: adiunkt naukowo-dydaktyczny

 

Zakład Inżynierii Chemicznej  (Z-7)

 

p. 110 / C-6

 

Tel. 71-320-24-06

 

Ten adres pocztowy jest chroniony przed spamowaniem. Aby go zobaczyć, konieczne jest włączenie w przeglądarce obsługi JavaScript.

 

 

 

 

Zainteresowania naukowe:

  • modelowanie metodami numerycznej mechaniki płynów (CFD) procesów inżynierii chemicznej
  • powlekanie klasyczne i suche w aparatach fontannowych
  • cyfrowa anemometria obrazowa
  • sieci neuronowe i algorytmy genetyczne w inżynierii chemicznej

 

Prowadzone zajęcia na kierunku ICHiP:

Studia inżynierskie:

  • Procesy cieplne (wykład)
  • Technologie informatyczne w projektowaniu 1 (laboratorium)
  • Technologie informatyczne w projektowaniu 2 (laboratorium)
  • Technologie informacyjne (laboratorium)

Studia magisterskie:

  • Symulacje procesów w aparaturze chemicznej metodą CFD (wykład, laboratorium)
  • Symulacje procesów w aparaturze chemicznej (laboratorium)

 

Zagadnienia obecnie realizowanych prac inżynierskich i magisterskich:

  • Aparaty fontannowo-fluidalne

  • Suche powlekanie leków i innych drobnych cząstek w aparacie Wurstera, modelowanie procesu, optymalizacja

 

Więcej informacji:

http://wludwig.pl

https://www.researchgate.net/profile/Wojciech_Ludwig